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학술저널
저자정보
임형준 (Korea Institute of Machinery and Materials) 이재종 (Korea Institute of Machinery and Materials) 최기봉 (Korea Institute of Machinery and Materials) 김기홍 (Korea Institute of Machinery and Materials) 이성휘 (Korea Institute of Machinery and Materials)
저널정보
한국기계가공학회 한국기계가공학회지 한국기계가공학회지 제12권 제5호
발행연도
2013.10
수록면
1 - 8 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2018

유연소자를 위한 롤 기반 나노임프린트 리소그래피 기술
임형준 ,  권순근 ,  김기홍 외 2명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2018.10 학술대회자료

2015

대면적 롤 나노임프린트 리소그래피 시스템 기술
임형준 ,  정상희 ,  이상욱 외 5명 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 2015.04 학술대회자료

2013

롤 기반 나노임프린트 리소그래피 시스템 기술
임형준 ,  이재종 ,  최기봉 외 2명 한국기계가공학회지 2013.10 학술저널

초록· 키워드

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Roll-based, nanoimprint lithography (Roll-NIL) is one effective method to produce large-area nanopatterns continuously. Systems and processes for Roll-NIL have been developed and studied for more than 15 years. Since the shapes of the stamp and the substrate for Roll-NIL can be plates, films, and rolls, there exist many concepts to design and implement roll-NIL systems. Combinations and variations of contact-methods for variously shaped stamps and substrates are analyzed in this paper. The contact-area can be changed by using soft materials such as polydimethylsiloxane (PDMS) or silicone rubber. Ultraviolet (UV) sources appropriate for the roll-to-plate or roll-to-roll process are introduced. Finally, two roll-to-plate nanoimprint lithography systems are illustrated.
#Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피) #Roll(롤) #Patterning(패터닝)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 롤 기반 나노임프린트 리소그래피시스템 기술
3. 결론
REFERENCES

참고문헌 (24)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Chou, S. Y / 1995 / Imprint of sub‐25 nm vias and trenches in polymers / Applied physics letters 67 : 3114 ~ 3116 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - Haisma, J / 1996 / Mold‐assisted nanolithography : A process for reliable pattern replication / Journal of Vacuum Science and Technology B 14 : 4124 ~ 4128 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - Chou, S. Y. / 1997 / Sub-10 nm imprint lithography and applications / Journal of Vacuum Science and Technology B 15 : 2897 ~ 2904 google schola 4. [학술지(정기간행물)] - Austin, M. D. / 2005 / 6 nm half-pitch lines and 0. 04 µm2 static random access memory patterns by nanoimprint lithography / Nanotechnology 16 : 1058 ~ 1061 google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Wu, W. / 2010 / Cones fabricated by 3D nanoimprint lithography for highly sensitive surface enhanced Raman spectroscopy / Nanotechnology 21 : 255502 ~ google schola

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