Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구

이형주 ,  이정환 ,  서주빈 외 2명

반도체및디스플레이장비학회지

2006 .01

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Nanoshrinkable Photoresists for Next Generation Lithography

Jae-Hak Choi ,  Ramak ,  ishnan Ganesan 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach

박주혜 ,  이성규 ,  김명웅 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2018 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

전도조건 하에서 표면조도와 액적 직경의 변화에 따른 알루미늄의 액적 증발 냉각

장충선 ,  최원식

열처리공학회지

2005 .01

Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography

김진백 ,  오태환 ,  허윤희

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

Lithography 기술과 Trend에 대한 고찰

조한구

전자공학회지

2001 .08