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자료유형
학술저널
저자정보
지한나 (한밭대학교 공과대학 신소재공학과) 장지성 (한밭대학교 공과대학 신소재공학과) 이상엽 (한밭대학교 공과대학 신소재공학과) 정중희 (한밭대학교 공과대학 신소재공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제29권 제5호
발행연도
2019.1
수록면
311 - 316 (6page)

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Transparent conducting electrodes are essential components in various optoelectrical devices. Although indium tin oxide thin films have been widely used for transparent conducting electrodes, silver nanowire network is a promising alternative to indium tin oxide thin films owing to its lower processing cost and greater suitability for flexible device application. In order to widen the application of silver nanowire network, the electrical conductance has to be improved while maintaining high optical transparency. In this study, we report the enhancement of the electrical conductance of silver nanowire network transparent electrodes by copper electrodeposition on the silver nanowire networks. The electrodeposited copper lowered the sheet resistance of the silver nanowire networks from $21.9{\Omega}{\square}$ to $12.6{\Omega}{\square}$. We perform detailed X-ray diffraction analysis revealing the effect of the amount of electrodeposited copper-shell on the sheet resistance of the core-shell(silver/copper) nanowire network transparent electrodes. From the relationship between the cross-sectional area of the copper-shell and the sheet resistance of the transparent electrodes, we deduce the electrical resistivity of electrodeposited copper to be approximately 4.5 times that of copper bulk.
#silver nanowire #transparent conducting electrode #electrodeposition

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R. G. Gordon / 2000 / MRS Bull 25:52 google schola T. Minami / 2005 / Semicond. Sci. Technol. 20:S35 google schola T. Minami / 2008 / Thin Solid Films 516:5822 google schola A. Kumar / 2010 / ACS Nano 4:11 google schola B. C. Tung / 2009 / Nano Lett 9:1949 google schola

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