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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2018.1
- 수록면
- 40 - 43 (4page)
- DOI
- https://doi.org/10.4313/JKEM.2018.31.1.40
이용수
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본 논문에서는 비대칭 마그네트론 스퍼터링법으로 Ni 타겟 전력 밀도에 따라 증착시킨 Ni 도핑 탄소(C:Ni) 박막의 표면, 구조, 전기적 특성등을 고찰하였다. 비대칭 스퍼터링 장치로 증착한 C:Ni 박막은 균일하고 결함이 없이 증착되었으며, Ni 타겟 전력 밀도 증가에 따라 표면거칠기와 마찰계수 값은 감소하였다. C:Ni 박막의 경도와 탄성계수 값은 전력밀도에 따라 증가하였고 박막의 비저항 값은 타겟 전력 밀도 증가에 따라 감소하였다. 이러한 결과는 전력밀도 증가는 비정질 탄소 박막에 금속인 Ni의 비율이 증가시키고, 박막의 나노결정화를 향상시켜 박막의 구조적, 물리적, 전기적 특성 변화에 기여했다.
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