플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF₄/O₂ 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각

박상준 ,  강석진 ,  최시영

대한전자공학회 학술대회

1992 .06

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )

주병권 ,  이윤희 ,  김형곤 외 1명

전자공학회논문지

1989 .11

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

하이브리드 모델을 이용한 플라즈마 식각 공정에서의 식각종료점 검출

김승균 ,  홍상진 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2011 .06

실리콘 마이크로머시닝을 위한 자기 정렬 특성을 갖는 새로운 실리콘 식각방법과 식각특성분석

李熙德 ,  金載官 ,  鄭訓周 외 1명

전기학회논문지

1996 .10

PCR 장치를 위한 플라즈마 식각에 관한 연구

김진현 ,  류근걸 ,  이종권 외 2명

청정기술

2003 .09

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링

유정식 ,  하대원 ,  우광방 외 2명

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

1994 .10

플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링 ( Neural Network Modeling of Plasma Etching Process )

유정식 ,  고택범 ,  차상엽 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

Low-angle forward-reflected 중성빔 식각장치를 이용한 Si 식각에 관한 연구

민경석 ,  박병재 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

염화제이철 수용액에 의한 스테인레스 강판의 식각에 관한 연구

이형민 ,  박무룡 ,  박광호 외 1명

화학공학

2012 .01

플라즈마 식각 라디칼의 신경망 모델링

김우석 ,  김병환

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10