플라즈마 식각 모델링 및 3차원 토포그래피 시뮬레이터 개발 ( Modeling of Plasma Etching and Development of Three-Dimensional Topography Simulator )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

전자공학회논문지-D

1998 .02

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application

Chang-ho Ra ,  Li Huamin ,  Yoo won jong 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

A Study on the Development of 3-Dimensional Pecvd Topography Simulator

최대희 ,  손명식 ,  강유석 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Etching Effect of Solution Plasma on Gold Nanoparticles

Junko Hieda ,  Takahi ,  o Ishizaki 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

A Plasma-Etching Process Modeling Via a Polynomial Neural Network

Dongwon Kim ,  Byungwhan Kim ,  Gwi-Tae Pa 외 1명

[ETRI] ETRI Journal

2004 .08

Understanding of my etching of polycarbonate based on $O_2$ plasmas

주영우 ,  박연현 ,  노호섭 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system

Yoo ,  Jin-Soo ,  Lee 외 7명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2003 .01

Lead-Frame 에칭공정에서 몬테카를로 시뮬레이션을 이용한 에칭특성 예측

정흥철 ,  최경민 ,  김덕줄

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2006 .01

다층 RIE Electodes를 이용한 아크릴의 $O_2/N_2$ Plasma Etching

김재권 ,  박연현 ,  백인규 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

통계적 기법을 이용한 에칭공정의 시뮬레이션

정흥철 ,  정지원 ,  최경민 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2004 .11

Dependence of cation ratio in Oxynitride Glasses on the plasma etching rate

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07