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C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
The effect of gas flow on the substrate temperature distribution in an inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Plasma etching of gallium nitride at high temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
플라즈마 진단 센서를 이용한 기판에서의 플라즈마 밀도 측정 시스템
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Measurement of NO₂ radical density of plasma jet by CEAS
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Sensitivity Enhancement of RF Plasma Etch Endpoint Detection With K-means Cluster Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
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