Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage

Ho Seok LEE ,  Kyung Chae YANG ,  Sung Woo PARK 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Effects of pulse modulation in Ar/H₂ inductively coupled plasma using fluid simulation

서권상 ,  김동현 ,  이호준

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique

이호녕 ,  장해규 ,  이학승 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Plasma Etching of Parylene and SU-8 Polymer in Capacitively Coupled O₂ Plasma

Jewon Lee ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F₈ Capacitively Coupled Plasma

In Ho Seong ,  Jang Jae Lee ,  Chul Hee Cho 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .11

Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature

K. Takeda ,  Y. Fukunaga ,  T. Tsutsumi 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters

Seolhye Pa ,  k ,  Juyoung Lee 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C₇F₁₄, C₇F₈) and Fluorocarbon Gas (C₄F₈)

Seung-Wan Yoo ,  Chulhee Cho ,  Kyungtae Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .07

C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구

오지영 ,  이지환 ,  정준호 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma

길홍성 ,  길유정 ,  김두산 외 1명

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2021 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

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2016 .08

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 ,  문룡 ,  성다인 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08