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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2017.10
- 수록면
- 1,488 - 1,493 (6page)
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Boron-doped ZnO:Al films were deposited by rf magnetron sputtering. The structural and optical property variations of the films with the boron amounts were studied. ZnO nanorods were grown on SiO2/Si wafers and glass by a hydrothermal method. ～50 nm-thick boron-doped ZnO:Al films were deposited on the substrates as seed layers. The mixed solution of zinc nitrate hexahydrate and hexamethylenetetramine in DI water was used as a precursor for ZnO nanorods. The concentration of zinc nitrate hexahydrate and that of hexamethylenetetramine were 0.05 mol, respectively. ZnO nanorods were grown at 90 °C for 2 hours. X-ray diffraction was conducted to observe the crystallinity of ZnO nanorods. A field emission scanning electron microscope was employed to study the morphology of nanorods. Optical transmittance was measured by a UV-Vis spectrophotometer, and photoluminescence was carried out with 266 nm light. The ZnO nanorods grown on the 0.5 wt% boron-doped ZnO seed layer showed the best crystallinity.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (14)
참고문헌 신청
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