다층 박막 스퍼터링 장비의 제어시스템에 관한 연구

이선종; 유흥렬; 손영득

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이선종 (Korea University of Technology and Education) 유흥렬 (Korea University of Technology and Education) 손영득 (Korea University of Technology and Education)

저널정보: 한국전기전자학회 전기전자학회논문지 전기전자학회논문지 제22권 제2호

발행연도: 2018.6

수록면: 302 - 308 (7page)

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다층 박막 스퍼터링(Multi-Layer Sputtering)은 상이한 물질을 원하는 두께의 박막을 다층(Multi-Layer) 으로 형성함을 목적으로 한다. 다층 박막 증착 공정은 공정 시간이 비교적 많은 비중을 차지하는데, 그 주요 원인은 공정 시간에 비해 증착하고자하는 기판의 이동 시간과 챔버를 고진공 상태로 만드는 시간이 많이 소요되기 때문이다. 반도체나 디스플레이 산업은 하나의 챔버에서 단일 물질을 스퍼터링하고 기판이 다관절 로봇을 통해 다른 챔버로 이동하여 다른 물질을 스퍼터링하는 공정이 대부분인데, 이는 필연적으로 공정 설비 내에 여러 개의 챔버와 진공펌프, 다관절 로봇이 필요하다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 본 논문에서는 단일 진공 챔버 내에서 서로 상이한 물질을 증착하는 다층박막 스퍼터링 장치에 대한 제어시스템을 제안하고 TFT 공정에서 적용한다. 제어시스템의 제작과 실험을 통해 유효성을 입증한다.

#Chamber #Control #Multi-Layer #Sputter #Plasma

참고문헌 (9)

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[단행본] - Y. KIM / 2014 / Introduction to Display Engineering, Textbooks

[단행본] - H. KIM / 2010 / Display Engineering / NAEHA publisher

[학술지(정기간행물)] - 허창우 / 2010 / ITO 박막의 DC 마그네트론 스퍼터링 진공 증착 / 한국정보통신학회논문지 14 (4) : 935 ~ 938

[학술지(정기간행물)] - 민길준 / 2015 / MgO 절연막을 갖는 자기 터널 접합구조에서의 급속 열처리 효과 / 한국자기학회지 25 (2) : 47 ~ 51

[학술대회논문] - S. Y. Park / 2012 / Multi Layer Thin Film Deposition Using Rotatable Hexagonal Gun by Sputtering for the Insulating Glass / The Korean Vacuum Society : 314 ~ 315

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