Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F₈ Capacitively Coupled Plasma

In Ho Seong ,  Jang Jae Lee ,  Chul Hee Cho 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .11

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C₇F₁₄, C₇F₈) and Fluorocarbon Gas (C₄F₈)

Seung-Wan Yoo ,  Chulhee Cho ,  Kyungtae Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .07

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters

Seolhye Pa ,  k ,  Juyoung Lee 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Chemical Vapor Deposition and Characterization of Parylene C films

Sanghyeok Pa ,  k ,  Deokho Hwang 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 ,  문룡 ,  성다인 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Initial Study of Electron Temperature and Density Simulation on Capacitively Coupled RF He Plasma

Deokho Hwang ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구

오지영 ,  이지환 ,  정준호 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique

이호녕 ,  장해규 ,  이학승 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas

Won-Seok Chang ,  Deuk-Chul Kwon ,  Mi-Young Song 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Ar/C₄F₆/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석

김수강 ,  양경채 ,  신예지 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02