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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.1
- 수록면
- 294 - 297 (4page)
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TiO2 박막은 비대칭 마그네트론 스퍼터링 장치에 의해 제작되었다. 제작되어진 TiO2 박막은 다양한 산소플라즈마 rf 파워에 따라 표면 처리되었다. 스퍼터링되어진 TiO2 박막은 다양한 산소플라즈마 조건에 의해 표면 처리되었으며, 표면 처리되어진 박막들의 표면 특성, 구조, 물리적 특성 등을 고찰하였다. 비대칭 마그네트론 스퍼터링되어진 TiO2 박막은 높은 접촉각 값을 나타내었고, 부드러운 표면, 그리고 비정질 구조 특성을 나타내었다. 그러나 스퍼터링되어진 TiO2 박막은 산소플라즈마 rf 파워가 증가함에 따라 rms 표면 거칠기 값은 감소하였고, 물리적 특성인 박막의 경도 값은 산소플라즈마 rf 파워의 증가에 따라 약간 증가하였다. 결과적으로 TiO2 박막의 자기세정 특성은 표면처리를 위한 산소 플라즈마 rf 파워에 의존한다.
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W. R. Hansen / 2005 / Proc. Natl. Acad. Sci. USA 102:385
M. Ma / 2006 / Curr. Opin. Colloid Interface Sci 11:193
J. K. Luo / 2007 / J. Micromech. Microeng 17:S147
J. C. Damasceno / 2000 / Deposition of Si-DLC films with high hardness, low stress and high deposition rates / Surf. Coat. Technol. 133-134:247
A. R. Krauss / 2001 / Diam. Relat. Mater 10:1952
M. Ma / 2006 / Curr. Opin. Colloid Interface Sci 11:193
J. K. Luo / 2007 / J. Micromech. Microeng 17:S147
J. C. Damasceno / 2000 / Deposition of Si-DLC films with high hardness, low stress and high deposition rates / Surf. Coat. Technol. 133-134:247
A. R. Krauss / 2001 / Diam. Relat. Mater 10:1952
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