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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.11
- 수록면
- 124 - 124 (1page)
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Metal-insulator-metal (MIM) capacitor gets much attention as an energy storage device because of its high-power density. However, it has relatively low energy density compared to other energy storages. Therefore, research for improving energy density of capacitor has been actively conducted using 3D structure with an ultra-high aspect ratio. Recently, Atomic layer deposition (ALD) is widely applied for fabricating MIM capacitor due to its high conformality on the complex structure at the low temperature regime (< 300℃). However, low deposition temperature disrupts the formation of crystallinity which affects the properties of film. For this reason, thin-film crystallization us^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE11040436');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#
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