Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F₈/ O₂ 가스의 특성 해석

김환호 ,  이정열 ,  박희성 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 ,  문룡 ,  성다인 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas

홍영훈 ,  김주호 ,  이무현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Experimental investigation on the plasma generation efficiency and plasma parameters in inductively coupled plasmas with a serial and a parallel antenna

김태우 ,  강현주 ,  정진욱

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Inductively Coupled Plasma Simulation Based on Electron Energy Distribution Function and Process Pressure

So ,  a Lee ,  Yejin Shon 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2020 .11

Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma

Kwan-Yong Kim ,  Kyung-Hyun Kim ,  Young-Hun Hong 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Plasma-induced reaction at plasma-liquid and plasma-polymeric film interface by AC-driven atmospheric pressure plasma

김태환 ,  이승환

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Flexible Plasma Sheets

Guangsup Cho ,  Yunjung Kim

Applied Science and Convergence Technology

2018 .03

Plasma Properties Data Center Activities for Plasma Application in the National Fusion Research Institute

송미영 ,  김대철 ,  권득철 외 16명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Research on parallelization mechanism of inductively coupled plasma for large area plasma source

이장재 ,  김시준 ,  김광기 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters

Seolhye Pa ,  k ,  Juyoung Lee 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Effects of Chamber Wall Contamination Levels on Plasma Properties in Long-Term C₄F₈/Ar Plasma Deposition Processes

Woojin Pa ,  k ,  Sangjun Pa 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2024 .11

Pulsed Inductively Coupled Plasma Discharge Simulation for Semiconductor Processing in 2D Axisymmetric Structure

Yejin Shon ,  So ,  a Lee 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2020 .11

마이크로스트립 라인을 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 기술 및 응용

김재호

진공이야기

2020 .09

Study on the electrical and optical diagnosis of electron temperatures according to conditions of plasma emission light intensity in inductively coupled plasma

Ye-Seul LEE ,  Jin-Woo CHOI ,  Tae-Hoon JO 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Characterization of inductively coupled Ar/CH4 plasma using tuned single langmuir probe and fluid simulation

차주홍 ,  한문기 ,  김동현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08