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자료유형
학술저널
저자정보
김창득 (경북대학교) 김민주 (경북대학교) 조연정 (경북대학교)
저널정보
한국물리학회 새물리 새물리 제72권 제5호
발행연도
2022.5
수록면
329 - 335 (7page)

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열화학기상증착기 (thermal chemical vapor deposition, TCVD)를 이용하여 Ni 구조물에서의 다공성 3차원 그래핀 구조 합성에 대한 온도 의존성을 확인하였다. 다공성의 3차원 그래핀 구조는 스펀지 구조의 Ni 구조물을 기반 틀로 그 표면에 다층의 그래핀을 형성하여 제작하였다. 스펀지 구조의 Ni 구조물은 TCVD 내부에서 800, 900, 1000, 1100 ℃의 온도 따라 각각 합성이 진행되었다. 합성된 다공성 3차원 그래핀 구조의 특성을 확인하기 위하여 그래핀 합성 후 Ni 구조물은 화학적 식각법을 이용하여 제거하였다. 다양한 분석을 통하여 제작된 다공성 3차원 그래핀 구조가 다층의 그래핀이 서로 연결되어 다양한 크기의 기공을 갖는 저밀도 다공성 네트워크로 형성됨을 확인하였다. 또한, 1100 ℃의 합성온도에서 합성된 다공성 3차원 그래핀 구조체는 기존의 Ni 구조물의 형태를 따라가지 못하고 변형된다는 것을 본 논문을 통하여 확인할 수 있었다.
#Graphite #Graphene #Porous #Thermochemical vapor deposition #Nickel #그래파이트 #그래핀 #다공성 #열화학기상증착법 #니켈

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과
Ⅳ. 결론
REFERENCES

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