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자료유형
학술저널
저자정보
권오민 (충북대학교) 조재령 (충북대학교) 김가현 (충북대학교)
저널정보
한국물리학회 새물리 새물리 제70권 제9호
발행연도
2020.9
수록면
709 - 714 (6page)

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본 연구에서는 고감도 탈기체분석장비를 이용한 비정질 실리콘의 수소 방출 특성 관찰결과를 다룬다. 비정질 실리콘의 원자구조는 무질서하게 배열되어 있으며 전기적 결함으로 작용하는 댕글링 본드를 함유하고 있는데, 댕글링 본드에 수소를 결합하여 전기적 결함을 부동태화하며, 이와 같은 상태의 물질을 수소화된 비정질 실리콘이라 한다. 탈기체분석법을 이용하여 수소화된 비정질 실리콘의 수소 방출특성을 관찰하면 수소화된 비정질 실리콘 내 Si-H결합과 박막의 미세구조에 대한 정보를 얻을 수 있다. 본 연구에서는 동일 공정조건으로 두께를 다르게 하여 증착한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 수소 방출 특성을 관찰하였으며, 박막 두께에 따른 박막의 미세구조의 변화를 관찰하였다. 박막이 10 nm 정도로 얇을 경우에는 화학기상증착의 원리에 따라 박막 성장 초기에 아일랜드 상의 미세구조를 취할 것으로 유추하였으며 푸리에변환 타원편광분광분석법을 이용한 상보적 분석을 통해 일관성있는 관찰결과를 얻게 되었다.
#Amorphous silicon #Microstructure of thin film #Hydrogen bonds #비정질 실리콘 #박막 미세구조 #수소결합

목차

Ⅰ. 서 론
Ⅱ. 실험 및 이론
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결 론
REFERENCES

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