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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 토의
4. 결론
참고문헌
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반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 변수가 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Parameters on Etch Characteristics in ECR Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
펄스 플라즈마를 이용한 식각
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
NLD Plasma 식각 공정을 이용한 $LiNbO_3$ 광 도파로의 식각 Profile의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향
전기학회논문지
1993 .04
Remote 플라즈마에서 위치 및 반응기체에 따른 PMMA의 식각 특성 분석
화학공학
2006 .01
SF6 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성 이온식각에 관한 실험적 연구 ( Experimental Study of Reactive Ion Etching of Tungsten Films Using SF6 Plasma )
전자공학회논문지-A
1993 .07
Al 합금의 반응성 이온 식각후 표면 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .11
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 건식 식각시 산소 가스 첨가 효과
전기학회논문지 C
1999 .06
MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화
전기전자재료학회논문지
2012 .01
고밀도 플라즈마 식각에 의한 CoTb과 CoZrNb 박막의 식각 특성
화학공학
2005 .01
고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
할로겐 가스 기반의 반응성 이온 식각을 이용한 PRAM 재료 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
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