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낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Key issues in the design of innovative RF plasma sources
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F8/ O₂ 가스의 특성 해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Development of an RF matching system in an RF inductively coupled plasma (ICP) source for 100 kW negative ion beam
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Equivalent circuit model of a rectangular RF driven hydrogen ion source for impedance matching network design
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Plasma-induced reaction at plasma-liquid and plasma-polymeric film interface by AC-driven atmospheric pressure plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Flexible Plasma Sheets
Applied Science and Convergence Technology
2018 .03
Plasma Properties Data Center Activities for Plasma Application in the National Fusion Research Institute
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Microwave Plasma Source Optimization for Thin Film Deposition Applications
Applied Science and Convergence Technology
2022 .03
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
마이크로스트립 라인을 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 기술 및 응용
진공이야기
2020 .09
Plasma Farming : Comprehensive Plasma Application to Agriculture
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Challenges and Solution on Large Scale of Atmospheric Pressure Plasma for Environmental Plasma Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Investigation of effect of rf bias frequency on plasma parameters in a remote inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Measurement of characteristics of plasma discharge in liquid
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Development of process plasma diagnosis and control system using plasma emission light diagnostics
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Plasma 모델링과 시뮬레이션을 위한 웹기반 Plasma Chemistry 데이터베이스
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
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