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Chlorine-based high density plasma etching of α-Ga2O3 epitaxy layer
Electronic Materials Letters
2021 .01
Inductively coupled plasma etching of high-k dielectric HfSiO4 film
Journal of Ceramic Processing Research
2018 .02
유기 킬레이터 물질의 고밀도 플라즈마를 이용한 구리 박막의 나노미터 스케일 식각
전기전자재료학회논문지
2021 .01
Effect of Dual Radio Frequency Bias Power on SiO2 Sputter Etching in Inductively Coupled Plasma
NANO
2017 .01
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
펄스 플라즈마를 이용한 식각
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
건식 식각 공정 쿼츠의 제작방식에 따른 부품 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2021 .11
Cl₂/Ar gas mixture 중성빔을 이용한 블록공중합체 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Inductively Coupled Plasma를 이용한 SnO 박막의 식각 특성 연구
한국표면공학회지
2016 .02
HCl 용액을 이용한 α-Ga2O3 epitaxy 박막의 습식 식각
한국결정성장학회지
2022 .02
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
Generation and Applications of Radicals and Ions with Plasmas in Etching Processes of Semiconductor Device Fabrication
대한기계학회 춘추학술대회
2022 .11
Plasma 공정에 의한 고출력 E-mode GaN 전력반도체 특성 연구
전자공학회논문지
2021 .03
플라즈마 식각 공정에서 의사결정 알고리즘을 이용한 실시간 식각 종료점 검출
전기전자학회논문지
2016 .03
모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화
한국기계기술학회지
2015 .01
Etch Mechanism of AlN Thin Film in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2022 .10
Study of Surface Reaction and Gas Phase Chemistries in High Density C4F8/O2/Ar and C4F8/O2/Ar/CH2F2 Plasma for Contact Hole Etching
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2015 .01
이황화 몰리브덴 박막의 반응성 이온 에칭에서 반응 속도 및 결정 의존성
대한전기학회 학술대회 논문집
2021 .10
Low GWP 가스 저온 ICP 식각 공정 표면 분석
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2024 .10
플렉시블 디스플레이 응용을 위한 폴리아릴레이트 기판의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2016 .01
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