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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 플라즈마 식각공정의 최적운영과 이상검출
Ⅲ. 실험 결과
Ⅳ. 결론
참고문헌
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신경회로망 모델을 이용한 플라즈마 식각공정의 최적 공정 운영
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1994 .10
신경회로망 모델을 이용한 플라즈마 식각공정의 최적 공정 운영 ( Optimal operation of plasma etching process utilizing neural network )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1994 .10
플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링 ( Neural Network Modeling of Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
신경회로망을 이용한 플라즈마 식각공정제어에 관한 연구
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1995 .10
유전알고리즘과 신경회로망을 이용한 플라즈마 식각공정의 모델링과 최적제어입력탐색
전기학회논문지
1996 .01
하이브리드 모델을 이용한 플라즈마 식각 공정에서의 식각종료점 검출
대한전자공학회 학술대회
2011 .06
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
신경회로망에 의한 최적제어
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1999 .10
플라즈마 식각 라디칼의 신경망 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .10
EPD 신호궤적을 이용한 플라즈마 식각공정의 실시간 이상검출
제어로봇시스템학회 논문지
1998 .04
적응 훈련 신경망을 이용한 플라즈마 식각 공정 수율 향상을 위한 공정 분석 및 예측 시스템 개발
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1999 .11
신경회로망에 의한 시간최적 제어
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2000 .05
신경회로망을 이용한 시간최적 제어
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1997 .06
Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF4/O2 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각
대한전자공학회 학술대회
1992 .06
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
퍼지 적응 제어기를 이용한 플라즈마 식각장비의 제어
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1994 .10
퍼지 적응 제어기를 이용한 플라즈마 식각장비의 제어 ( Plasma Etching System Control using Fuzzy Adaptive Controller )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
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