The comparison of end-point detection between optical emission spectroscopy and residual gas analysis in silicon etching in NF3/Ar Plasma

Hee Tae Kwon ,  Woo Jae Kim ,  Gi Won Shin 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

다변량 분석기법을 통한 플라즈마 공정 모니터링 기술

장해규 ,  고경범 ,  이호녕 외 1명

진공이야기

2015 .12

Sensitivity Enhancement of RF Plasma Etch Endpoint Detection With K-means Cluster Analysis

Honyoung Lee ,  Haegyu Jang ,  Hak-Seung Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique

이호녕 ,  장해규 ,  이학승 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters

Seolhye Pa ,  k ,  Juyoung Lee 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Correlation Analysis of Plasma Properties and Film Properties using Optical Emission Spectroscopy in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes of Silicon Nitride

Seunghun Han ,  Byung hyun Oh ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Prediction of Silicon Nitride Film Properties by the Analysis of Optical Emission Spectroscopy Signals in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Sun Jung Kim ,  Seunghun Han ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Correlation Study between Optical Emission Spectroscopy Signals and Silicon Nitride Film Properties in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Seunghun Han ,  Sun Jung Kim ,  Heeyeop Chae

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Plasma Diagnostics using Optical Emission Spectroscopy on Argon Capacitively Coupled Plasma with Various Line-of-Sight

Jaemin Song ,  Jongsik Kim ,  Dae Chul Kim 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Plasma Optical Signal Analysis for SiNx Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Yooncheol Shin ,  Sun Jung Kim ,  Sangin Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Quantitative analysis of silicone fluid by inductively coupled plasma-optical emission spectroscopy

Mi ,  i ,  Kwon

한국분석과학회 학술대회

2016 .11

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Analysis of silicone modified polyester resin in paint by inductively coupled plasma optical emission spectroscopy (ICP-OES)

Mi ,  i ,  Kwon 외 2명

한국분석과학회 학술대회

2017 .05

PI(Plasma Information) 인자 모니터링을 통한 dry etch process chamber 상태 정량화 및 공정제어 알고리즘 기반 연구

장용석 ,  노연길 ,  차태원 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

플라즈마 환경에서 세라믹 소재의 위치에 따른 챔버벽 재증착에 관한 연구

소종호 ,  최은미 ,  이승수 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02