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Plasma diagnosis and multivariate analysis techniques for plasma processes are reviewed. The principles and applications of optical emission spectroscopy (OES) and VI probe are discussed briefly. The research results of principal component analysis (PCA), one of the widely used multivariate analysis techniques for plasma process monitoring is discussed in this article.
목차
1. 서론
2. 플라즈마 진단기법 및 그 응용
3. 결론
References
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