PECVD Synthesis of WS₂ for Hydrogen Evolution Catalysis

Kanade Vinit ,  Hyeong-U Kim ,  Seokjun Hong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

실시간 입자 복합특성 분석장치를 이용한 pecvd 공정 발생 입자의 분석 연구

김동빈 ,  문지훈 ,  김형우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Stabilization of Real-time Thickness monitoring system in PECVD chamber

이철 ,  황혜주 ,  박상호 외 6명

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2017 .08

PECVD를 이용한 SiO₂ 증착에서 전극 간격에 따른 증착률과 균일도 특성

이상호 ,  허민 ,  김대웅 외 6명

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2020 .08

Amorphous carbon layer 증착 중 발생하는 입자의 증착 조건별 특성 분석

김동빈 ,  정원준 ,  문지훈 외 5명

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2016 .02

Low-Temperature Synthesis of Wafer Scale WS₂ by PECVD

Kanade Vinit ,  김형우 ,  박근상 외 1명

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2019 .02

Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD

Jae Eun Kim ,  Kyung Dong Lee ,  Yoonmook Kang 외 2명

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2016 .02

Optimized ultra-thin tunnel oxide layer characteristics by PECVD using N₂O plasma growth for high efficiency n-type Si solar cell

Minhan Jeon ,  Jiyoon Kang ,  Donghyun Oh 외 8명

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2016 .02

Solving the RF coupling issue between chambers that share the ground in one PECVD system

Chul Lee ,  Yeajin Shin ,  Hojun Lee 외 1명

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2020 .08

PECVD를 통해 향상된 SiN/SiO2/ITO 다층박막의 무반사 효과에 대한 연구

최민준 ,  권세라 ,  송애란 외 5명

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2016 .02

Synthesis of SiNx:H films in PECVD using RF/UHF hybrid sources

K. S. Shin ,  B. B. Sahu ,  J. S. Lee 외 3명

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2015 .08

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

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2016 .08

PECVD 공정에 의한 유기 금속계 중간층과 비정질 탄화수소층의 저마찰 코팅 개발에 관한 연구

최유리 ,  전예슬 ,  문경일 외 1명

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2017 .02

Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor

Kyeong-Keun CHOI ,  Kee JONG ,  Jeong-Yoon LEE 외 1명

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2016 .08

The growth properties of carbon nanowalls by using microwave PECVD depending on the coated substrate

Jong Kug PARK ,  Seok Hun KWON ,  Seung-Cheol YOO 외 3명

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2016 .08

N₂O plasma growth ultra-thin tunnel oxide layer passivation by PECVD for high efficiency n-type Si solar cell

Minhan JEON ,  Jiyoon KANG ,  Donghyun OH 외 6명

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2016 .08

Synthesis of silicon nitride thin film for high permeation barrier performance with RF power variation on hollow cathode RF PECVD

김석현 ,  이준석 ,  B.B.Sahu 외 1명

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2018 .02

Ar, Kr, Xe / O2 / C4F6 / CH2F2 혼합가스 용량성 결합 플라즈마에서의 산소 유량 증가에 따른 SiO2 및 ACL patterned-wafer 식각

H. J. Yeom ,  Y. S. Lee ,  D. H. Choi 외 4명

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2019 .08

Low Temperature PECVD for SiOx Thin Film Encapsulation

Hyung June Ahn ,  Sang Heon Yong ,  Sun Jung Kim 외 2명

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2016 .02

Low Temperature PECVD process for SiNx/Organic Multilayer Thin Film Encapsulation

Hyung June Ahn ,  Sang Heon Yong ,  Sun Jung Kim 외 3명

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2017 .02