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학술대회자료
저자정보
김우재 (광운대학교) 방인영 (광운대학교) 김지환 (광운대학교) 박연수 (광운대학교) 온범수 (광운대학교) 권희태 (광운대학교) 신기원 (광운대학교) 권기청 (광운대학교)
저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 2021년 한국진공학회 제60회 동계정기학술대회 초록집
발행연도
2021.2
수록면
116 - 116 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2021

삼불화질소의 플라즈마 반응성 이온 식각 특성 연구
김우재 ,  방인영 ,  김지환 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 2021.02 학술대회자료

2020

발광 분광 분석법 및 잔류가스 분석기를 이용한 NF₃ 플라즈마 반응성 이온 식각 장치의 실리콘 식각 진단 연구
김우재 ,  권희태 ,  김지환 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 2020.08 학술대회자료

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오늘날, 삼불화질소(NF<SUB>3</SUB>)는 반도체 제조 분야 등의 세정 공정 과정 중 반응성 가스로 사용된다. 이러한 챔버 세정 공정의 경우 NF<SUB>3</SUB>가 챔버 내로 직접 주입된 후 플라즈마를 방전하여 챔버 내부에 증착된 부산물을 제거한다.
본 연구에서는 실리콘(Si)에 용량 결합형 플라즈마 반응성 이온 식각을 수행하며 잔류 가스 분석기(RGA)^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE10548767');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#
#삼불화질소 #반응성 이온 식각

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박힘찬 ,  김상현 대한환경공학회지 2024 .05
이중 배기 시스템을 이용한 반응성 이온빔 식각 라디칼 제어 연구
장윤종 ,  김두산 ,  김예은 외 2명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021 .12

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