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Cyclic Dry Cleaning Process of silicon oxide using OF₂/NH₃ Mixture Gas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Selectively Dry Cleaning of Silicon Oxide using Cyclic Process
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각의 SiO2 두께 변화 해석 모델
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
펄스 플라즈마 식각을 통한 실리콘 나노구조의 식각 특성 향상
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
NF3 플라즈마 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
Ar/NF3 혼합가스 Remote plasma source에서의 플라즈마 밀도 측정 및 Si/SiO₂ 식각률 측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
발광 분광 분석법 및 잔류가스 분석기를 이용한 NF₃ 플라즈마 반응성 이온 식각 장치의 실리콘 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Ar, Kr, Xe / O2 / C4F6 / CH2F2 혼합가스 용량성 결합 플라즈마에서의 산소 유량 증가에 따른 SiO2 및 ACL patterned-wafer 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Angular dependence of SiO₂ etch rates during plasma etching in perfluoroalkyl vinyl ethers
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
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