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Nano Pattern 된 Ultra Low-k Dielectric 물질에서의 C₃H₂F6를 이용한 Low Damage 식각 공정 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Etch properties of dielectric materials in C7F14 Inductively Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F8 Capacitively Coupled Plasma
Applied Science and Convergence Technology
2021 .11
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Plasma Etching of Parylene and SU-8 Polymer in Capacitively Coupled O₂ Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F8/ O₂ 가스의 특성 해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
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